RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列

业界当先的卷对卷双面直写光刻解决规划，引领高精度引线框架造作。双面同时曝光设计保障双面图案高度一致性和对准精度。该系统选取DMD技术，通过高精度的资料解析能力，最幼可实现25μm精密线路及优异的线宽一致性和边缘粗糙度，在保障高品质的同时，可降低整体运行成本。

产品特点

无掩模直写曝光

自动纠偏

双面同时曝光

气动涨紧上料

适应多种尺寸规格需要

支持多种数据体式（GDSⅡ/Gerber/ODB++）

*以上数据起源于CFMEE尝试室测试了局，具体情况可能因现实使用环境而有所分歧。本公司保留对有关数据和内容进行调整的权势，恕不另行通知。

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